Analytik und Metrologie
Informationen
Name: | Analytik und Metrologie | |
Einrichtung: | 300 mm CMOS-Reinraum | |
Partner: | Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme (IPMS) |
Beschreibung
Das Fraunhofer IPMS bietet in seinen Laboren eine Vielzahl von analytischen Charakterisierungsmethoden an. Der Schwerpunkt liegt auf der Wafercharakterisierung mit verschiedenen Röntgenmethoden (XPS, XRD/XRR und TXRF), sowie hochauflösende Elektronenmikroskopie (SEM, TEM mit EDX, EFTEM, EELS) und Kornanalyse (EBSD/TKD) mit entsprechenden Präparationstechniken (FIB, chemische und mechanische Präparation) zur Verfügung. Rasterkraftmikroskopie mit der Möglichkeit zur piezoelektrischen Untersuchung (AFM/PFM) runden das Portfolio ab. Angebote zur elektrischen Charakterisierung finden Sie hier.
Mit unserer Inline-Metrologie können wir physikalische und chemische Eigenschaften von Strukturen auf 300-mm-Wafern bestimmen, z. B. mit Röntgenbeugung (XRD), winkelaufgelöster Röntgen-Photoelektronenspektroskopie (XRS), spektraler Ellipsometrie und energiedispersiver Röntgenspektroskopie. Alle unsere Geräte für die Analyse auf Waferebene sind in einer Reinraumumgebung der Klasse 6 (ISO 14644-1) untergebracht, die den Industriestandards entspricht.
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Arten der Dienstleistung
- Die Dienstleistung wird als eine Standard- bzw. Routineleistung ohne Forschungsanteil erbracht.
- Die Leistung wird als eine Forschungsleistung z.B. zur Methodenentwicklung, -Weiterentwicklung oder im Rahmen einer Forschungskooperation erbracht.
Ansprechpartner
Zugeordnete Geräte
Letztes Update
Zuletzt aktualisiert am: 15. Januar 2025 um 09:14:44