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Analytik und Metrologie

Informationen

Name: Analytik und Metrologie
Einrichtung: 300 mm CMOS-Reinraum
Partner: Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme (IPMS)

Beschreibung

Das Fraunhofer IPMS bietet in seinen Laboren eine Vielzahl von analytischen Charakterisierungsmethoden an. Der Schwerpunkt liegt auf der Wafercharakterisierung mit verschiedenen Röntgenmethoden (XPS, XRD/XRR und TXRF), sowie hochauflösende Elektronenmikroskopie (SEM, TEM mit EDX, EFTEM, EELS) und Kornanalyse (EBSD/TKD) mit entsprechenden Präparationstechniken (FIB, chemische und mechanische Präparation) zur Verfügung. Rasterkraftmikroskopie mit der Möglichkeit zur piezoelektrischen Untersuchung (AFM/PFM) runden das Portfolio ab. Angebote zur elektrischen Charakterisierung finden Sie hier.

Mit unserer Inline-Metrologie können wir physikalische und chemische Eigenschaften von Strukturen auf 300-mm-Wafern bestimmen, z. B. mit Röntgenbeugung (XRD), winkelaufgelöster Röntgen-Photoelektronenspektroskopie (XRS), spektraler Ellipsometrie und energiedispersiver Röntgenspektroskopie. Alle unsere Geräte für die Analyse auf Waferebene sind in einer Reinraumumgebung der Klasse 6 (ISO 14644-1) untergebracht, die den Industriestandards entspricht.

Link zu weiteren Informationen

https://www.ipms.fraunhofer.de/de/cleanrooms/analytics-and-characterization/300mm-Analytics-and-Metrology.html

Arten der Dienstleistung

Ansprechpartner

Dr. Benjamin Lilienthal-Uhlig
E-Mail:
Telefon:
+49 (0) 351 26 07-3064

Zugeordnete Geräte

Name Vorschau Aktionen
Raman-Spektroskopie
Rasterkraftmikroskopie (AFM)
Time-of-Flight-Massenspektrometrie (ToF-SIMS)
Lichtmikroskop
Elektronenmikroskopie
Fokussierter Ionenstrahl
Inline-Metrologie
Röntgen-Photoelektronen-Spektroskop (XPS)
Röntenbeugung (XRD/XRR)

Letztes Update

Zuletzt aktualisiert am: 15. Januar 2025 um 09:14:44