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Metrologie und Inspektion

Informationen

Name: Metrologie und Inspektion
Einrichtung: 200 mm MEMS-Reinraum
Partner: Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme (IPMS)

Beschreibung

Metrology and inspection are crucial processes in semiconductor manufacturing, ensuring the accuracy and quality of wafers by measuring critical dimensions and detecting defects at various stages of processes. With our instruments we can perform thickness measurements, surface characterization, defect classification, sheet resistance and stress. 

Arten der Dienstleistung

Ansprechpartner

Jörg Amelung
E-Mail:
Telefon:
+49 351 88 23-4691

Zugeordnete Geräte

Name Vorschau Aktionen
Oberflächencharakterisierung
4-Spitzenmessplatz für Schichtwiderstände
Defektmessungen
Waferinspektion
Critical Dimension Scanning Electron Microscope (CD-SEM)
Ellipsometer
X-Ray Diffractometer (XRD)
Weisslichtinterferometer
Wafer Messungen
Verspannungsmessungen
Filmdickenmessung

Letztes Update

Zuletzt aktualisiert am: 14. Januar 2025 um 14:07:38