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Lithographie für wafer

Informationen

Name: Lithographie für wafer
Einrichtung: 200 mm MEMS-Reinraum
Partner: Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme (IPMS)

Beschreibung

We offere different Lithography services like exposure, coating, contacting and preparation. 

The coating of wafers involves applying a uniform layer of material onto the wafer's surface to enhance its properties and functionality. This process requires precision to ensure the coating is even and free of defects, as variations can lead to performance issues in the final semiconductor devices. We offer spin coating, development and spray Coating with different instruments. 

As a next step we offer Deep Ultraviolet (DUV) lithography to transfer circuit patterns onto wafers with high precision. 

Link zu weiteren Informationen

https://www.ipms.fraunhofer.de/de/cleanrooms/mems-technologies-dresden/200-mm-cleanroom-infrastructure.html

Arten der Dienstleistung

Ansprechpartner

Jörg Amelung
E-Mail:
Telefon:
+49 351 88 23-4691

Zugeordnete Geräte

Name Vorschau Aktionen
Beschichtung
Vorbereitung für die Lithographie von Wafern
Kontraktierung
DUV-Lithographie

Letztes Update

Zuletzt aktualisiert am: 14. Januar 2025 um 09:41:26