Lithographie für wafer
Informationen
Name: | Lithographie für wafer | |
Einrichtung: | 200 mm MEMS-Reinraum | |
Partner: | Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme (IPMS) |
Beschreibung
We offere different Lithography services like exposure, coating, contacting and preparation.
The coating of wafers involves applying a uniform layer of material onto the wafer's surface to enhance its properties and functionality. This process requires precision to ensure the coating is even and free of defects, as variations can lead to performance issues in the final semiconductor devices. We offer spin coating, development and spray Coating with different instruments.
As a next step we offer Deep Ultraviolet (DUV) lithography to transfer circuit patterns onto wafers with high precision.
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Arten der Dienstleistung
- Die Dienstleistung wird als eine Standard- bzw. Routineleistung ohne Forschungsanteil erbracht.
- Die Leistung wird als eine Forschungsleistung z.B. zur Methodenentwicklung, -Weiterentwicklung oder im Rahmen einer Forschungskooperation erbracht.
Ansprechpartner
Zugeordnete Geräte
Name | Vorschau | Aktionen |
---|---|---|
Beschichtung | ||
Vorbereitung für die Lithographie von Wafern | ||
Kontraktierung | ||
DUV-Lithographie |
Letztes Update
Zuletzt aktualisiert am: 14. Januar 2025 um 09:41:26